"China perlu melakukan terobosan dalam teknologi seperti optik canggih dan integrasi sistem melalui SMEE," katanya.
Terkait dengan pengembangan teknologi yang lebih mandiri, Triolo juga mencatat bahwa China telah melakukan upaya besar dalam riset dan pengembangan untuk menciptakan teknologi penting yang diperlukan untuk litografi EUV.
Namun, diperkirakan masih memerlukan waktu empat hingga lima tahun sebelum sistem yang dibangun dapat diproduksi secara komersial dengan cukup berdasarkan pemasok dalam negeri China.
Baca Juga: Antisipasi Ancaman, PBB Kenalkan Proyek Pengawasan Penggunaan AI
Baca Juga: Kaspersky Bagikan Tips Menghindari Penipuan Deepfake Saat Pemilu